隨著微電子技術(shù)的快速發(fā)展，芯片互連工藝作為電子封裝的核心環(huán)節(jié)，其可靠性直接決定了整個(gè)電子產(chǎn)品的性能和壽命。
引線鍵合作為zui傳統(tǒng)且應(yīng)用zui廣泛的芯片互連技術(shù)，已有五十余年的發(fā)展歷史，但其質(zhì)量控制始終是行業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)。在眾多質(zhì)量檢測(cè)方法中，非破壞鍵合拉力試驗(yàn)因其高效、準(zhǔn)確且不損傷產(chǎn)品的特點(diǎn)，成為確保鍵合可靠性的關(guān)鍵手段。
本文科準(zhǔn)測(cè)控小編將系統(tǒng)介紹引線鍵合工藝原理、質(zhì)量控制標(biāo)準(zhǔn)，重點(diǎn)分析Alpha W260推拉力測(cè)試機(jī)在非破壞鍵合拉力試驗(yàn)中的應(yīng)用流程和技術(shù)要點(diǎn)，為微電子封裝領(lǐng)域的質(zhì)量控制提供實(shí)用參考。
一、引線鍵合工藝原理及技術(shù)特點(diǎn)
引線鍵合是一種固相鍵合技術(shù)，通過外加能量（超聲、壓力、熱）使金屬產(chǎn)生塑性變形及原子固相擴(kuò)散，從而實(shí)現(xiàn)緊密連接。根據(jù)材料不同，主要分為Au絲鍵合和Al絲鍵合兩大類型。
Au絲球焊鍵合采用熱聲焊原理，是熱壓球焊與超聲焊的結(jié)合。其工藝過程包括：Au絲穿過碳化鎢或陶瓷劈刀通孔，通過電容放電在Au絲頂端形成Au球，然后在芯片鍵合區(qū)進(jìn)行球焊（第一點(diǎn)），最后在成膜基板上完成楔形焊（第二點(diǎn)）。金絲球焊的劈刀通孔直徑通常為絲徑的1.3-1.6倍，金球尺寸控制在絲徑的2.5-3倍。鍵合用Au絲需經(jīng)500℃高溫退火15-20分鐘，以改善延展性和柔韌性。
Al絲楔焊鍵合則采用純超聲焊原理，無(wú)需加熱。其鍵合能量與Al絲硬度的關(guān)系符合CE=H3/2D3/2公式，其中E為鍵合能量，C為振動(dòng)系數(shù)，H為Al絲硬度，D為Al絲直徑。Al絲也需經(jīng)過真空退火處理（380-400℃，30-40分鐘）以降低硬度，提高鍵合性能。
帶狀引線鍵合是絲鍵合的重要變體，包括Au帶熱聲鍵合和Al帶超聲楔焊。相比絲鍵合，帶狀鍵合具有高頻寄生效應(yīng)小、抗干擾性好、電流承載能力大等優(yōu)勢(shì)，特別適用于大功率電路和微波電路。
二、鍵合質(zhì)量評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)與關(guān)鍵指標(biāo)
鍵合質(zhì)量評(píng)價(jià)體系包括破壞性測(cè)試和非破壞性測(cè)試兩大類，其中非破壞鍵合拉力試驗(yàn)因其無(wú)損特性成為生產(chǎn)過程中zui常用的質(zhì)量控制手段。
1. 鍵合強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)要求
根據(jù)GJB548B等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，鍵合強(qiáng)度需滿足以下zui低要求：
· 直徑25μm Au絲：≥3.0gf
· 直徑50μm Au絲：≥5.0gf
· 直徑100μm Al絲：≥10.0gf
· 直徑300μm Al絲：≥30.0gf
2. 非破壞鍵合拉力試驗(yàn)設(shè)定值
非破壞性測(cè)試的拉力設(shè)定值為對(duì)應(yīng)直徑鍵合引線密封前最小鍵合強(qiáng)度的80%，具體如下表所示：
3. 鍵合點(diǎn)幾何要求
· Au絲球焊焊球直徑：>2倍絲徑，<5倍絲徑
· 楔焊焊點(diǎn)寬度：>絲徑，<2.5倍絲徑
· 楔焊焊點(diǎn)長(zhǎng)度：>1.5倍絲徑，<5倍絲徑
· 鍵合點(diǎn)位置精度：>75%面積落在鍵合區(qū)內(nèi)（航天產(chǎn)品要求100%）
三、Alpha W260推拉力測(cè)試機(jī)的應(yīng)用
設(shè)備特點(diǎn)
a、高精度：全量程采用自主研發(fā)的高精度數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，確保測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。
b、多功能性：支持多種測(cè)試模式，如晶片推力測(cè)試、金球推力測(cè)試、金線拉力測(cè)試以及剪切力測(cè)試等。
c、操作便捷：配備專用軟件，操作簡(jiǎn)單，支持多種數(shù)據(jù)輸出格式，能夠wan美匹配工廠的SPC網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)。
四、非破壞鍵合拉力試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)化流程
1. 試驗(yàn)前準(zhǔn)備
1. 設(shè)備校準(zhǔn)：每日使用前需進(jìn)行力傳感器校準(zhǔn)，確保測(cè)試精度
2. 鉤針選擇：根據(jù)鍵合絲直徑選擇合適鉤針，滿足以下關(guān)系：
o 直徑≤51μm：拉鉤直徑≥2倍絲徑
o 51<直徑≤127μm：拉鉤直徑≥1.5倍絲徑
o 直徑>127μm：拉鉤直徑≥1倍絲徑
3. 參數(shù)設(shè)置：按照標(biāo)準(zhǔn)設(shè)置非破壞拉力值（最小鍵合強(qiáng)度的80%）
4. 速度設(shè)置：控制拉鉤移動(dòng)速度，使初始接觸沖擊力不超過設(shè)定值的20%
2. 測(cè)試操作步驟
1. 樣品固定：將待測(cè)電路穩(wěn)固安裝在測(cè)試平臺(tái)上，避免移動(dòng)
2. 光學(xué)對(duì)位：使用顯微鏡定位待測(cè)鍵合絲，確保拉鉤與引線接觸點(diǎn)位于：
o 芯片與基板間鍵合：中點(diǎn)與芯片邊緣之間
o 基板與引線柱間逆向鍵合：中點(diǎn)與引線柱之間
3. 拉力方向：調(diào)整拉鉤位置，使拉力方向與基板/芯片表面基本垂直
4. 施加拉力：以恒定速度施加拉力至設(shè)定值，保持時(shí)間不超過1秒
5. 結(jié)果判定：觀察鍵合點(diǎn)是否分離，記錄保持完好的合格樣品
3. 抽樣方案與接受標(biāo)準(zhǔn)
根據(jù)產(chǎn)品等級(jí)不同，采用不同的抽樣方案：
K級(jí)電路（宇航級(jí)）：
· 100%全檢
· 允許的PDA（允許缺陷率）：2%或1根失效（取較大值）
· 失效批允許重新測(cè)試一次，PDA降為1.5%
H級(jí)電路（高可靠級(jí)）：
· 每批至少2個(gè)電路樣本，每個(gè)至少15根鍵合絲
· 發(fā)現(xiàn)1根失效時(shí)，追加2個(gè)電路100%測(cè)試
· 接受標(biāo)準(zhǔn)：0失效
4. 測(cè)試注意事項(xiàng)
1. 拉力點(diǎn)選擇：必須避開鍵合點(diǎn)根部，防止人為引入應(yīng)力集中
2. 射頻電路處理：對(duì)無(wú)法直接測(cè)試的射頻電路，需制作模擬樣品進(jìn)行替代測(cè)試
3. 環(huán)境控制：應(yīng)在潔凈環(huán)境中操作，避免污染影響測(cè)試結(jié)果
4. 數(shù)據(jù)記錄：詳細(xì)記錄測(cè)試日期、操作員、設(shè)備參數(shù)、測(cè)試結(jié)果等信息
5. 失效分析：對(duì)失效樣品進(jìn)行顯微檢查，分析失效模式（脫鍵、絲斷裂、彈坑等）
五、常見問題分析與解決方案
1. 典型失效模式及原因
1. 界面脫鍵：
o 鍵合區(qū)污染或氧化
o 鍵合能量不足（超聲功率低、壓力小、時(shí)間短）
o 金屬化層厚度不當(dāng)（過薄或過厚）
2. 引線斷裂：
o 鍵合形變過大導(dǎo)致踵部裂紋
o 引線材料缺陷（退火不足、雜質(zhì)含量高）
o 拉力測(cè)試時(shí)拉鉤位置不當(dāng)
3. 彈坑（露底）缺陷：
o 鍵合能量過大（特別是超聲功率過高）
o 芯片Al鍵合區(qū)存在硅結(jié)瘤
o 鍵合壓力過高
2. 工藝參數(shù)優(yōu)化建議
1. Au絲球焊：
o 第一點(diǎn)球焊：溫度150±5℃，壓力30-50gf，超聲功率30-50mW，時(shí)間10-20ms
o 第二點(diǎn)楔焊：壓力比第一點(diǎn)高20%，其他參數(shù)類似
2. Al絲楔焊：
o 超聲功率比Au絲高30-50%
o 壓力設(shè)置50-80gf
o 鍵合時(shí)間20-30ms
o 可適當(dāng)加熱（約100℃）提高鍵合強(qiáng)度
3. 特殊應(yīng)用注意事項(xiàng)
1. PCB板鍵合：
o 鍵合溫度必須低于PCB材料的Tg溫度
o 建議優(yōu)先使用Al絲鍵合
o 如需Au絲鍵合，應(yīng)選擇Tg>150℃的高性能基材（如聚酰亞胺）
2. 宇航應(yīng)用：
o 功率芯片禁用Au-Al鍵合系統(tǒng)
o 每月進(jìn)行300℃、1h的鍵合強(qiáng)度穩(wěn)定性試驗(yàn)
o 硅鋁絲鍵合不允許返工
3. Au-Al鍵合系統(tǒng)：
o 控制Au層厚度在0.5-0.8μm以減少IMC影響
o 對(duì)于必須使用的場(chǎng)合，需通過300℃高溫考核
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